卷对卷薄膜连续生长CVD

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产品详情

主要特点:

  • 石墨烯薄膜产业化设备

  • 宽幅卷对卷连续生长

  • APC系统;真空蝶阀自动控制

  • 碳源等工艺气体MFC控制

  • 薄膜制备过程全自动控制

  • 三腔室结构

主要参数:

  • 工作温度:1020-1050℃

  • 恒温区:1000mm、五段控温

  • 工艺管材质:石英管

  • 工艺管内径:Φ250mm

  • 铜箔宽度:200mm

  • 铜箔运行速度约:100-400mm/min,可调

  • 极限真空度:小于3Pa,可恒压控制

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